深圳京都玉崎株式會社

LASERTEC 光掩模缺陷檢測系統 MATRICS X700系列

主要規格：
hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）

用　　途：
「フォトマスク欠陥検査裝置　MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。

特長 hp45nmノード以降の最先端フォトマスクの欠陥検査?品質管理に最適な裝置位相シフトマスク（EPSM、APSM）及びOPC（Optical Proximity Correction＝光近接効果補正）マスクに対応光源に自社開発の213nm全固體レーザーを搭載し、高感度欠陥検出を達成 OHT自動搬送との接続等フレキシブルなインターフェイスが可能（オプション）「フォトマスク欠陥検査裝置　MATRICS X700シリーズ」は、レーザー?光関連産業の発展に大きく貢獻したことが評価され、一般社団法人レーザー學會より、レーザー學會産業賞「奨勵賞」を受賞いたしました。用途ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査および定期検査、ヘイズ検査マスクショップにおける出荷前検査（ペリクル貼り付け後も検査可能）仕様検査方式マルチダイモード（アレイモード含む）、シングルダイモード及びこれらの複合検査検査光 3モード（透過光、反射光、透過/反射同時照明光）検出感度最高感度25nm 　※検出感度は欠陥タイプ?検査方式により異なります検査時間 105分 / 100mm2（ノーマルスキャン） 60分 / 100mm2（ファーストスキャン）マスクサイズ 6025

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