凱爾測控試驗(yàn)系統(tǒng)有限公司

真空加熱臺(tái)

　　一、真空加熱臺(tái)腔體設(shè)備特點(diǎn)：　　本真空樣品加熱臺(tái)腔體為桌面式高溫。用于少量樣品功能陶瓷，光學(xué)材料，碳復(fù)合材料，硬質(zhì)合金，粉末冶金等在高溫條件下進(jìn)行燒結(jié)處理，也可用于對樣品高溫真空環(huán)境的電信號(hào)測試。　　二、真空加熱臺(tái)腔體技術(shù)參數(shù)：　　1、額定功率：1KW 　　2、額定溫度：1650℃，長期使用溫度≤1600℃ 　　3、有效熱臺(tái)尺寸：φ50mm(深*寬*高) 　　4、真空觀察窗口：φ27 　　5、加熱臺(tái)材質(zhì)：高純氮化硼　　6、加熱器：鎢片加熱　　7、測溫方式：B型熱電偶　　8、冷態(tài)極限真空：(機(jī)械泵≤5Pa)(分子泵1×10-3pa) 　　7、電源：AC220V50HZ 　　8、溫控器功能：30段數(shù)顯溫度程序控溫儀+功率調(diào)整電壓器/超溫報(bào)警/電流電壓反饋　　9、儀表控溫精度：±1℃ 　　真空加熱臺(tái) 　　http://www.zzktyq.cn/Products-34005249.html 　　https://www.chem17.com/st428428/product_34005249.html

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