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光學表面缺陷分析儀

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　　一、光學表面缺陷分析儀簡介：　　Lumina AT1光學表面缺陷分析儀可對玻璃、半導體及光電子材料進行表面檢測。Lumina AT1既能夠檢測SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料，又能對Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進行檢測，其價格優勢使其成為適合于研發/小批量生產過程中品質管理及良率改善的有力工具。　　Lumina AT1結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與表面斜率等基本原理，以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物，表面與表面下缺陷，形狀變化和薄膜厚度的均勻性進行檢測。　　1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應力點；　　2.坡度通道用于凹坑、凸起；　　3.反射通道用于粗糙表面的顆粒；　　4.暗場通道用于微粒和劃痕；　　二、功能：　　l主要功能　　1.缺陷檢測與分類　　2.缺陷分析　　3.薄膜均一性測量　　4.表面粗糙度測量　　5.薄膜應力檢測　　l技術特點　　1.透明、半透明和不透明的材料均可測量，比如硅、化合物半導體或金屬基底；　　2.實現亞納米的薄膜涂層、納米顆粒、劃痕、凹坑、凸起、應力點和其他缺陷的全表面掃描和成像；　　3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時間為3分鐘，50x50mm樣品30秒內可完成掃描并顯示結果；　　4.高抗震性能，系統不旋轉，形狀無關，可容納非圓形和易碎的基底材料；　　5.高達300x300mm的掃描區域；可定位缺陷，以便進一步分析；技術能力　　三、應用案例　　1.透明/非透明材質表面缺陷檢測　　2.MOCVD外延生長成膜缺陷管控　　3.PR膜厚均一性評價　　4.Clean制程清洗效果評價　　5.Wafer在CMP后表面缺陷分析　　6.多個應用領域，如AR/VR、Glass、光掩模版、藍寶石、Si wafer等 http://www.natengyiqi.com/Products-36860806.html https://www.chem17.com/st125795/product_36860806.html

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