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機構(gòu)登錄
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檢測認(rèn)證人脈交流通訊錄
- X-射線薄膜窗口能夠?qū)崿F(xiàn)軟 X-射線（如真空紫外線）的最大透射率。X-射線越軟，能量越低，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗口越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于 X 射線的更好穿透。現(xiàn)有技術(shù)一般采用計量式或ST氮化硅薄膜，但 或ST薄膜具有較高的殘余應(yīng)力，不夠結(jié)實，容易破裂。而且基于 X-射線顯微透射成像需要，氮化硅薄膜對軟-X射線必須滿足有較小的吸收。另一方面，有時我們會提到薄膜窗口透光性能，即視覺上其可以“透視”。如在透光顯微鏡下，薄膜只有超過一定厚度，透光性能才會減弱。在估算薄膜的透光性能時，應(yīng)當(dāng)注意吸收界限，如果需要考慮光學(xué)性能，吸收界應(yīng)低于13nm，當(dāng)吸收界限為13nm時，100nm厚的薄膜透光度為 44%；吸收界限為12.4nm時，透光度降為13%。 因此，在氮化硅薄膜窗口、支撐淡化過薄膜的襯底選擇及薄膜、襯底的厚度控制上，以及氮化硅薄膜窗口的射線透過特性上，現(xiàn)有的氮化硅窗口都有缺陷。鑒于上述問題，本實用型設(shè)計一種X-射線顯微鏡透射成像用的窗口。 本實用新型涉及一種用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載工具，特別涉及一種 X 射線顯微透射成像用窗口，包括控制厚度的硅晶片襯底、氮化硅薄膜窗口溝槽、控制厚度的低應(yīng)力氮化硅薄膜，由于此種氮化硅薄膜窗口選用低應(yīng)力氮化硅薄膜，比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。本實用新型氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域。例如，X-射線（光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等。氮化硅薄膜窗口成膜光滑，強度大、致密性好，表面平整性很穩(wěn)定（粗糙度小于1nm），對于X-射線應(yīng)用沒有任何影響；可應(yīng)用于高溫領(lǐng)域，能夠承受 1000 度高溫，非常適合在硅晶片襯底表面利用CVD方法生長各種納米材料；具備較好的薄膜窗格透光性能。 氮化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：50nm SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：100nm SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：150nm SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：2.5×2.5mm，膜厚：200nm SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：3×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口陣列系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，2×2陣列，膜厚：50nm SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列；膜厚：50nm SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口，框架：10×10mm，窗口：1.5×1.5mm，4×4陣列；膜厚：100nm 氧化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SO-505-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：50nm SO-510-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：100nm SO-520-15 氧化硅薄膜窗口，框架：5×5mm，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：150nm SO-705-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：50nm SO-710-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：100nm SO-720-25 氧化硅薄膜窗口，框架：7.5×7.5mm，窗口：1.5×1.5mm，3×3陣列，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（常規(guī)窗口，200um硅片厚度） SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架：10×10mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：100nm，金膜厚度：10nm SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架：7.5×7.5mm，窗口：2×2mm，膜厚：200nm，金膜厚度：10nm 特殊定制產(chǎn)品 SN-5H5-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：500nm SN-5H10-15 氮化硅基底框架：5×5mm，硅片厚度：200um，窗口：1.5×1.5mm，膜厚：1000nm SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張，10×10mm切片 其他特殊規(guī)格窗口： 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-50 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：5mm×5mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度） SN-LDE-12A-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：50nm SN-LDE-12B-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：100nm SN-LDE-12C-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：150nm SN-LDE-12D-30 氮化硅薄膜窗口，框架：12mm×12mm，窗口：3mm×3mm，膜厚：200nm 氮化硅薄膜窗口系列（特殊窗口，200um硅片厚度，鍍金屬元素） SN-510-1-Al2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Al膜厚2000nm SN-510-1-Mg2000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mg膜厚2000nm SN-510-1-Cu100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cu膜厚100nm SN-510-1-Fe100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，F(xiàn)e膜厚100nm SN-510-1-Mn100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mn膜厚100nm SN-510-1-Ni100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ni膜厚1000nm SN-510-1-Ca1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ca膜厚1000nm SN-510-1-Ge1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ge膜厚100nm SN-510-1-Se1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Se膜厚1000nm SN-510-1-Cr100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cr膜厚100nm SN-510-1-Co100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Co膜厚100nm SN-510-1-Ga500 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ga膜厚500nm SN-510-1-La1000 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，La膜厚100nm SN-510-1-Mo100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Mo膜厚100nm SN-510-1-Ti200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Ti膜厚200nm SN-510-1-V200 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，V膜厚200nm SN-510-1-Te100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Te膜厚100nm SN-510-1-Cd100 框架：5mm×5mm，窗口：1.5mm×1.5mm，膜厚：100~200nm，Cd膜厚100nm 注：我們可以根據(jù)您實際需求的規(guī)格要求定制，根據(jù)加工難度、訂購量，有相應(yīng)的優(yōu)惠！同時也提供氮化硅這一系列的技術(shù)咨詢服務(wù)。
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