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PDC-32G-2等離子清洗機應(yīng)用領(lǐng)域

　　PDC-32G-2等離子清洗機應(yīng)用領(lǐng)域：　　現(xiàn)今PLASMA清洗工藝因具有清潔無污染的特性，而被廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。　　三、PDC-32G-2等離子清洗機主要應(yīng)用：　　1. 高分子材料表面修飾。　　2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。　　3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。　　4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。　　5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。　　6. 清洗生物芯片、微流控芯片。　　7. 清洗沉積凝膠的基片。　　8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。　　9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。　　10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。　　更多產(chǎn)品信息訪問武漢月憶神湖科技有限公司　　https://www.chem17.com/st504055/erlist_2333695.html 　　http://www.whyueyi.com/Products-36784114.html

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